水噴霧和光氧催化技術(shù)特點 ： 
    有些產(chǎn)生除臭的 工藝所排出的 除臭中會體現(xiàn)(tǐ xiàn)出惡臭、黏附、高溫，高濕、此種工況下要完全處理除臭根本不可能，在高于80℃的 工況下光氧(Oxygen)設(shè)備(shèbèi)的 光源效率僅為40℃時的 50%,如果黏附物黏在光管壁上，那么光源就沒有辦法散發(fā)，沒有光源的 設(shè)備就沒有凈化處理功能，因此在光氧除臭處理裝置前設(shè)置水噴霧降溫，及粗效過濾作為預(yù)處理器，從而確保由原配套風(fēng)機(jī)抽風(fēng)引入的 除臭中所含塵雜在進(jìn)入光氧除臭處理裝置時得到有效的 攔截過濾。把通過初步預(yù)處理的 除臭送入光氧除臭處理裝置后采用風(fēng)機(jī)送出。 
    水噴霧的 作用： 
    利用惡臭、有機(jī)除臭中某些物質(zhì)易溶于水的 特性，使惡臭、有機(jī)除臭成分直接與水接觸，從而溶解于水達(dá)到篩除目的 。噴霧除臭設(shè)備環(huán)保節(jié)能：每天工作12小時，水電消耗不到3元。適用于水溶性、有組織排放源的 惡臭、有機(jī)除臭。工藝簡單，管理方便，設(shè)備運轉(zhuǎn)費用低，但產(chǎn)生二次感染，需對洗滌液進(jìn)行處理(chǔ lǐ)；凈化效率低，應(yīng)與其他技術(shù)聯(lián)合使用，單獨使用對有機(jī)除臭處理效果差。     
光氧催化氧化： 
    利用特制的 高能高臭氧UV紫外線光束照射除臭，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，與臭氧進(jìn)行反應(yīng)生成低分子化合物，如CO2、H2O等。噴霧除臭最常用的是間歇式操作的，而它們就叫間歇式噴霧系統(tǒng)。投資（意義：是未來收益的累積）費用低，適用范圍廣，凈化效率高，操作控制簡單，除臭效果好，設(shè)備(shèbèi)運行穩(wěn)定，占地小，運行費用低，隨用隨開，不會造成二次污染。對有機(jī)除臭處理效果好。 
所以把水噴霧和光催化氧化除臭處理技術(shù)結(jié)合起來對含有高溫以及黏性排放的 有機(jī)除臭和惡臭氣體及粉塵有特效。噴霧除臭最常用的是間歇式操作的，而它們就叫間歇式噴霧系統(tǒng)。
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